Ivan Sadovskyy, Y. Jia, M. Leroux, J. Kwon, H. Hu, L. Fang, C. Chaparro, S. Zhu, U. Welp, J.-M. Zuo, Y. Zhang, R. Nakasaki, V. Selvamanickam, G. W. Crabtree, A. E. Koshelev, A. Glatz, W.-K. Kwok
Advanced Materials |
March 2016, Vol 28(23): pp. 4593-4600